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紅外光學溫度計

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紅外光學溫度計

紅外光學溫度計是一種測量光并通過校準以指示溫度的設備。紅外光學溫度計檢測來自熱物體的輻射通量,并利用普朗克黑體輻射方程算法來計算物體的表面溫度。所用的算法是基于普朗克黑體輻射方程。
紅外光學溫度計通過測量物體輻射的紅外能量來計算物體的表面溫度。半導體行業的紅外溫度計主要應用于晶體生長階段,分為Si探測器、銦鎵砷探測器以及熱電堆探測器三種。從測溫原理上分為比色和單色,從光通形式分為透鏡型及光導型。
和其光電HQ-RTS系列紅外溫度計可應用于MOCVD、氧化擴散爐、PVD、CVD、ALD等半導體設備,具有高精準度、高重復性、高可靠性、可定制、技術支持快速響應等諸多優勢。

1、全部件國產化,無供應鏈卡脖子風險。

2、技術指標可溝通定制,側重點關注區域:

A.光學系統根據實際視場條件設計,同等條件下能量利用率更高,信噪比更高,精度更高;

B.電路指標根據重點關注溫度區段定制化設計,將對應區段信號特殊處理,局部區域噪音更低、倍率更高,獲得更高信號穩定性、精度、分辨率;

C.機械變焦范圍根據需要進行設計,滿足設計指標的前提下機身瘦身,更小的空間內實現更多功能;

D.瞄準方式如目視光路、激光瞄準、ccd圖像監視等可根據需求定制;

E.通信方式支持EtherCat EtherNet等工業互聯網標準接口。

3、技術支持、溝通響應速度高。

4、安裝、使用操作等可提供專業技術人員現場操作、培訓。


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