HQ-IC Wafer系列晶圓溫度測量系統能夠對工藝設備的環境進行全面現場監控，利用具備無線傳感器晶片技術的晶圓和軟件包及數據分析系統，HQ-IC Wafer可以提供關于各種晶圓和光罩工藝的全面信息。

IC Wafer晶圓采用無線、薄型設計，可以在所有光刻工藝設備中使用，可為關鍵生產工藝提供高精度的靜態和動態溫度測量。使用65個傳感器來幫助光刻 工程師表征熱均勻性并分析熱循環的各個部分，包括傳輸、加熱、冷卻和穩定狀態。內置的天線及無線充電電池在放入配套工作站后自動傳輸數據并充電，在上位機通過IC thermometer軟件進行參數配置。