HQ-RTS-L系列在控制晶圓之間溫度和薄膜厚度的均勻性方面具有更高優勢。
HQ-RTS-L紅外溫度計采用高度敏感的電子器件及光學系統,可以使用更短波長的探測器來測量輻射能,減少了晶圓透射及發射率造成的誤差。此外,紅外溫度計的高速采集和高分辨率對于控溫和噪聲抑制起到很好的作用,進而對晶圓溫度監控和生產工藝的提升能得到很好的幫助。
應用案例
性能參數